탈취시스템
라디칼 탈취 시스템
개요 : 강력한 고 에너지 광선 UVC, UVD와 이산화염소를 이용, 악취 분자의 물리 화학적 제거방법
시스템 특징 : 이산화염소, 실리카겔 혹은 제올라이트, UV, 산화티타늄 광촉매, 활성탄 등을 활용해 악취를 제거하는 시스템


네오라디칼 악취 제거 시스템 A
계통도

| 측정장소 | 처리전 | ① | ② | ③ | 메커니즘 | |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 농도(%) | 황화수소 | 100 | 1 | 0 | 0 |
1.공조시스템을 이용해 ClO2와 반응시키는 방법(제거효율 99%) 2.잔류한 황화수소는 UV와 특수촉매로 제거함 |
| 암모니아 | 100 | 100 | 50 | 5 |
2.잔류한 암모니아는 UV와 특수촉매로제거함 |
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| 복합악취 | 100 | 50 | 30 | 5 |
1.공조시스템을 이용해 ClO2와 반응시키는 방법(제거효율 50%) 2.잔류한 복합악취는 UV와 특수촉매로 제거함 |
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| VOC | 100 | 100 | 100 | 5 |
1.UV와 특수촉매를 이용해 VOC를 CO2와 H2O로 분해하여 제거함 (제거효율 95%) |
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제거원리
네오라디칼 악취 제거 시스템 B
악취제거 메카니즘
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- 1. 암모니아
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NH3+·OH → ·NH2+H2O
·NH2+O2 → ·NH2O2
·NH2O2 + ·OH → HNO2+H2O
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- 2. 메르캅탄
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RHS + ·O2 + ·O2 → RHSO4
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- 3. 황화수소
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H2S + ·O2 + ·O2 → H2SO4
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- 4. 아민류
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CH3NH2 + ·OH → H2O + CO2 + NH3
NH3 + ·OH → HNO2 + H2O
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- 5. 아세트알데히드
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RCHO + ·O → RCOOH
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- 6. VOC
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VOC + ·OH → CO2 + H2O
VOC + ·O → CO2 + H2O
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- 7. 벤젠(benzene)
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benzene + ·O + ·OH → CO2 + H2O
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- 8. 벤조피렌(benzopyrene)
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benzopyrene + ·O + ·OH → CO2 + H2O











